(´º½ºÅë½Å=±è»ó¼· ±âÀÚ) ÇÁ¶û½º Ç×°ø‧ÇØ¾ç µî ÷´Ü»ê¾÷ºÐ¾ß Áß°ß±â¾÷µéÀÌ IFEZ(ÀÎõ°æÁ¦ÀÚÀ¯±¸¿ª)ÀÇ ÅõÀÚȯ°æ¿¡ ±íÀº °ü½ÉÀ» ³ªÅ¸³Â´Ù.
ÀÎõ°æÁ¦ÀÚÀ¯±¸¿ªÃ»Àº ÇÁ¶û½º °ø°øÅõÀÚÀºÇà ÁÖ°üÀ¸·Î Çѱ¹À» ¹æ¹®ÇÑ ÇÁ¶û½º À¯¸ÁÁß°ß±â¾÷µéÀ» ´ë»óÀ¸·Î 9ÀÏ ¼Ûµµ±¹Á¦µµ½Ã °æ¿øÀç¾Ú¹è¼´õ È£ÅÚ¿¡¼ ÅõÀÚÀ¯Ä¡¼³¸íȸ¸¦ °³ÃÖÇß´Ù.
À̳¯ Çà»ç¿¡´Â Ç×°ø»ê¾÷¿¡ µé¾î°¡´Â Ư¼ö¼³ºñ¸¦ Á¦ÀÛÇÏ´Â ECM Technologies¸¦ ºñ·Ô Groupe HEF, PIRIOU µî ÈÇÐ, Çؾç, ¹°·ù ºÐ¾ßÀÇ ÇÁ¶û½º ±â¾÷ 20¿©°³»ç°¡ Âü¼®Çß´Ù.
À̳¯ ¼³¸íȸ´Â IFEZÀÇ ÅõÀÚȯ°æ, »ý°í¹ð µî °ü·Ã ±â¾÷µéÀÇ IFEZ ÁøÃâ ¼º°ø»ç·Ê¼Ò°³¸¦ ¼ø¼·Î ÁøÇàµÆÀ¸¸ç, À̾î IFEZ ½º¸¶Æ®½ÃƼ ¿î¿µ¼¾ÅÍ¿Í È«º¸°üµµ µÑ·¯ºÃ´Ù.
±èÁø¿ë ÀÎõ°æÁ¦Ã»ÀåÀº ¼ÛµµÃ·´Ü»ê¾÷ Ŭ·¯½ºÅÍ, ¿µÁ¾ Ç×°øÁ¤ºñ»ê¾÷´ÜÁö, ¼Ûµµ ±¹Á¦¹°·ùº¹ÇÕ´ÜÁö µî IFEZÀÇ ÁÖ¿ä»ç¾÷À» ¼Ò°³ÇÏ°í ¿Ü±¹ÀÎÅõÀÚ±â¾÷µé Àμ¾Æ¼ºê ¹× Áö¿øÁ¤Ã¥À» ¾È³»Çß´Ù.
ÀÎõ°æÁ¦Ã»Àº ¼¿Æ®¸®¿Â, »ï¼º¹ÙÀÌ¿À·ÎÁ÷½º µî ¼¼°èÀûÀÎ ±â¾÷ÀÌ ÀÔÁÖÇÑ Ã·´Ü»ê¾÷ Ŭ·¯½ºÅ͸¦ È®´ëÇϱâ À§ÇØ IFEZ 11°ø±¸³»¿¡ ¾à 99¸¸§³ ºÎÁö¸¦ Ãß°¡·Î È®º¸ÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
¾Æ¿ï·¯ ÷´Ü»ê¾÷Ŭ·¯½ºÅÍ ¿¬±¸¼Ò ¿ëÁö¿¡ ÀÔÁÖÇÒ ±â¾÷À» À¯Ä¡Çϱâ À§ÇØ ºÎÁö ¸Å°¢À» ÁøÇàÇÏ°í ÀÖ´Ù.
¶Ç, ÀÎõ°øÇ×Àαٿ¡ MRO »ê¾÷´ÜÁö¿Í R&D ¼¾Å͸¦ Á¶¼º, °øÇ×°æÁ¦±ÇÀ» ±â¹ÝÀ¸·Î ÇÑ MRO »ê¾÷ÀÇ À°¼º¿¡ Àû±Ø ³ª¼°í ÀÖ´Ù.
±èÁø¿ë ûÀåÀº ¡°À̹ø Çѱ¹ ¹æ¹®±â°£ Áß¿¡ Çѱ¹½ÃÀå, ƯÈ÷ Ź¿ùÇÑ Áö¸®Àû ¿©°Ç°ú ºñÁî´Ï½º ȯ°æÀ» °¡Áø IFEZ¸¦ »ìÆ캸°í Çѱ¹½ÃÀå¿¡ ÁøÃâÇÏ´Â °è±â°¡ µÇ±â¸¦ ¹Ù¶õ´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.
À̾î, ¡°IFEZ°¡ ÀÎõ°æÁ¦ÀÇ Áß½ÉÀ» ³Ñ¾î Çѱ¹ÀÇ ¼ºÀå µ¿·Â Áß½ÉÃàÀÌ µÇµµ·Ï ´Ù±¹Àû ÇÁ¶û½º ±â¾÷µéÀÇ ÅõÀÚÈ®´ë¸¦ ±â´ëÇÑ´Ù¡±°í ¹àÇû´Ù.