(´º½ºÅë½Å= ±è»ó¼· ±âÀÚ)ÀÎÇÏ´ë´Â ±³³»¿¡ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ÀÌ °¡´ÉÇÑ 330§³ ±Ô¸ðÀÇ Å¬¸°·ë¼³Ä¡¸¦ ÃßÁø, »ê¾÷ÇöÀå°ú ºñ½ÁÇÑ ¼öÁØÀÇ ¿¬±¸¿Í ½Ç½ÀÀÌ °¡´ÉÇØÁú Àü¸ÁÀÌ´Ù.
10ÀÏ ÀÎÇÏ´ë¿¡ µû¸£¸é À̹ø Ŭ¸°·ë ±¸ÃàÀº LINC⁺ »çȸ¸ÂÃãÇüÇаú ÁßÁ¡Çü»ç¾÷(´ÜÀå Çö½Â±Õ) Áß Çϳª·Î, 2È£°ü °ø°ú´ëÇаǹ° 1Ãþ¿¡ 330§³ ±Ô¸ð·Î µé¾î¼¸ç, ´ÙÀ½´Þ ¿Ï°øµÉ ¿¹Á¤ÀÌ´Ù.
Ŭ¸°·ë¿¡´Â CMOS(Complementary metal-oxide semiconductor) ¹ÝµµÃ¼ ÁýÀû¼ÒÀÚ Á¦ÀÛÀÌ °¡´ÉÇÑ ´Ù¾çÇÑ Àåºñ¿Í Áß¾Ó °ø±Þ½Ä ¼³ºñ°¡ ¼³Ä¡µÈ´Ù.
¶Ç, ¸¶ÀÌÅ©·Î¹ÌÅÍ ÀÌÇÏ·Î ÆÐÅÏ Çü¼ºÀÌ °¡´ÉÇÑ ³ë±¤Àåºñ¸¦ ºñ·ÔÇØ ¹Ú¸· ÁõÂøÀåºñ, ½Ä°¢Àåºñ µî ¹ÝµµÃ¼°øÁ¤¿ë Àåºñ 10¿© Á¾ÀÌ µé¾î¼±´Ù.
ûÁ¤µµ µî±Þ(Cleanliness Class)Àº 100~1000À¸·Î Àû¿ëÇϸç, ÀÌ´Â 1Á¦°öÇÇÆ® ´ç 0.5¸¶ÀÌÅ©·Î¹ÌÅÍ ÀÌ»óÀÇ ÀÔÀÚ°¡ 100~1000°³ ÀÌÇÏ·Î Á¦¾îµÇ´Â °ÍÀ» ÀǹÌÇÑ´Ù.
µû¶ó¼ ¸Ó¸®Ä«¶ô 200ºÐÀÇ 1 Å©±â ÀÔÀÚ¸¦ °ü¸®ÇÒ ¼ö ÀÖ¾î, ´Ù¸¥ ´ëÇРŬ¸°·ëº¸´Ù ³ôÀº ¼öÁØÀÇ Ã»Á¤µµ °ü¸®°¡ °¡´ÉÇÏ´Ù.
ÀÎÇÏ´ë´Â Ŭ¸°·ë ±¸ÃàÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤°ú Àåºñ Àü°ø¿¡ Âü¿©ÇÏ´Â ÇаúÀÇ À¶ÇÕ ¿¬±¸°¡ È°¹ßÇÏ°Ô ÀÌ·ïÁú °ÍÀ¸·Î º¸°í ÀÖ´Ù.
ÇÑÆí, ÀÎÇÏ´ë´Â ÇöÀç 8°³ ½Ç½À ±³°ú¸ñÀ» Æ÷ÇÔÇØ ¸ðµÎ 63°³ Àü°ø ±³°ú¸ñÀ» ¿î¿µÇÏ°í ÀÖ´Ù.
¶Ç ±â¾÷ ÀçÁ÷ÀÚ ½Ç¹«±³À°À» ÅëÇÑ °ü·Ã ºÐ¾ß Àη ¿ª·®À» °ÈÇÏ°í ÀÌ´Â Áö¿ª »ê¾÷¹ßÀüÀ¸·Î À̾îÁú °ÍÀ̶ó´Â Àü¸ÁÀÌ´Ù.
ÀÌ¿Í ÇÔ²² ASML µî ¹ÝµµÃ¼ Àü¹® ±â¾÷°úÀÇ »êÇаøµ¿ ÇÁ·ÎÁ§Æ® ÁøÇ൵ °èȹÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ƯÈ÷, 3, 4Çгâ, ´ëÇпø ÇлýµéÀ» ´ë»óÀ¸·Î ¹ÝµµÃ¼ °ü·Ã ±â¾÷ÀÌ ¾È°í ÀÖ´Â ¹®Á¦¸¦ ÇÔ²² ÇØ°áÇÏ´Â PSP(Problem Solving Project) °úÁ¤À» ÁøÇàÇÑ´Ù.
À̹ۿ¡µµ ÀÎÇÏ´ë´Â ÇöÀç ÇöÀå¹Ì·¯Çü½Ç½À¼¾Å͸¦ ¿î¿µÇÏ°í ÀÖ´Ù.
Áö³ÇØ ±³³»¿¡ ¼³Ä¡µÈ ÷´Ü¼ÒÀçºÐ¼® ½Ç½À½Ç°ú ÷´Ü¼ÒÀç°øÁ¤ ½Ç½À½Ç¿¡ Ŭ¸°·ëÀ» ´õÇØ ¼¼ °³ °ø°£À¸·Î Á¶¼ºµÈ´Ù.
ÀÌ¿¡ µû¶ó ÇöÀå¹Ì·¯Çü½Ç½À¼¾Å͸¦ Áß½ÉÀ¸·Î »ê¾÷ü ¼öÁØ¿¡ À̸£´Â ÇöÀå½Ç½ÀÀÌ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ¸·Î º¸°í ÀÖ´Ù.
¶Ç, Àü°øº° ½Ç½À±³À°ÀÇ ³»½ÇÈ¿Í À¶‧º¹ÇÕ ¿¬±¸ÀÇ È°¼ºÈ, Áö¿ª ±â¾÷°úÀÇ »êÇÐÇù·Â °È°¡ °¡´ÉÇÒ °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÏ°í ÀÖ´Ù.
ÃÖ¸®³ë ÀÎÇÏ´ë ¹ÝµµÃ¼°øÁ¤‧ÀåºñÀü°ø±³¼ö´Â ¡°´Ù¾çÇÑ ¹ÝµµÃ¼ °øÁ¤ÀÌ °¡´ÉÇÑ Å¬¸°·ë ±¸ÃàÀº °ü·Ã Çаú ÇлýµéÀÇ ½Ç¹« ¿ª·®À» ³ô¿© ¼öµµ±Ç ¹ÝµµÃ¼ °ü·Ã ±â¾÷ÀÇ Àη³ ÇØ¼Ò¿Í »ê¾÷ ¹ßÀü¿¡ ±â¿©ÇÒ °ÍÀÌ´Ù¡±°í ¸»Çß´Ù.
¶Ç, ¡°Å¬¸°·ë ±¸ÃàÀ¸·Î ÇöÀå¹Ì·¯Çü½Ç½À¼¾ÅÍ°¡ ¿Ï¼ºµÇ¸é ÇØ´ç ºÐ¾ß ¿¬±¸µµ Áö±Ýº¸´Ù ´õ È°¹ßÇÒ °ÍÀ¸·Î ±â´ëÇÑ´Ù¡±°í ¹àÇû´Ù.